Приборы для исследования тонких пленок, основанные на методах рентгеновского измерения XRD, XRR и XRF, обеспечивают быстрое выполнение неразрушающего анализа Они доказали высокую эффективность при автономном (ex-situ) исследовании критически важных параметров тонких слоев, гетероструктур и систем со сверхрешеткой, в том числе в нанодиапазоне. Полученная информация позволяет оптимизировать качество пленки, повысить эффективность производства и снизить расходы. Компания Malvern Panalytical предлагает аналитические решения для контроля разработки и производства различных многослойных микро- и оптоэлектронных устройств.

2830 ZT

2830 ZT

Передовое решение для анализа тонких пленок полупроводников

Подробнее
Измерение Химический состав, Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Be-U
Разрешение (Mg-Ka) 35eV
Скорость обработки образца up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
Технология Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

2830 ZT

Передовое решение для анализа тонких пленок полупроводников

Подробнее
Измерение Химический состав, Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Be-U
Разрешение (Mg-Ka) 35eV
Скорость обработки образца up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
Технология Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD XL

2830 ZT X'Pert³ MRD X'Pert³ MRD XL

Передовое решение для анализа тонких пленок полупроводников

Versatile research & development XRD system

Versatile research, development & quality control XRD system

Подробнее Подробнее Подробнее
Технология
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
Анализируемые свойства
Исследования тонких пленок
Химический состав
Elemental analysis
Contaminant detection and analysis
Elemental quantification
色综合欧美在线视频区,日本高清色在线视频免费,国语自产拍在线视频中文